2025年11月15日至16日，第十一届中国原子层沉积会议（China Atomic Layer Deposition Conference, CALD 2025）在花城广州圆满落幕。本次会议由中山大学承办，吸引了来自全国高等院校、科研院所及ALD技术领域龙头企业的30余位顶尖专家学者和企业代表齐聚一堂，共同探讨原子层沉积（ALD）技术的最新研究进展、产业应用与未来发展趋势。华中科技大学微纳中心陈蓉教授作为大会组织者和大会报告人出席大会。
聚焦前沿，共话技术发展
会议学术氛围浓厚，交流形式多样。陈蓉教授以“选择性原子层沉积技术在半导体制造中的进展(Selective Atomic Layer Deposition in Advancing Semiconductor Manufacturing)”为题作精彩大会报告，系统梳理了该技术在国内的研究现状、核心突破与发展蓝图，引发了与会者的热烈讨论。
大会设置了多场专题报告、口头报告和分论坛，与会专家学者及企业技术负责人围绕ALD技术在微电子（尤其是国产芯片制造）、光电显示、新能源存储、催化等关键领域的最新科研成果、工艺优化、国产装备研发以及产业化应用挑战等核心议题，进行了深入交流和思想碰撞。
产学研深度融合，激发创新活力
11月15日下午的学术海报展示与交流环节成为会议亮点。来自全国各地的青年学者和研发人员展示了在多个应用领域的前沿工作，与在场的资深专家、学者以及企业研发负责人展开了面对面的深入探讨。这一环节不仅充分展现了国内ALD技术研究的蓬勃活力，更有效促进了学术界最新成果与产业界实际需求的精准对接，为后续的产学研合作与技术转化孕育了新的机遇。当晚，经过专家组的集体评审和投票，最终评选出10个最佳海报奖，主席为优秀海报获奖者颁发了证书，其中，华中科技大学微纳中心的冯玉群、王威振和周卫民三位学者荣获了该奖项。
成果丰硕，展望未来
搭建高水平国内交流平台：成功打造了国内ALD领域规模最大、专业性最强的年度盛会，为国内专家学者、科研机构与领军企业搭建了高效沟通与合作的桥梁。
展示国内领先实力：集中呈现了我国在ALD基础研究、核心工艺、装备自主化及产业应用方面取得的一系列重要突破和领先成果，彰显了国内在该技术领域的综合实力与创新潜能。
深化产学研协同：会议有力促进了科研前沿与产业需求的紧密结合。与会企业代表积极反馈，会议内容聚焦产业痛点，为国内ALD技术的成果转化和解决产业关键技术难题提供了新思路和合作契机。
倡议成立“中国原子层沉积学会”：为顺应ALD技术在国内应用领域快速拓展和深化的趋势，陈蓉教授在会议期间提出了筹备成立“中国原子层沉积学会（Chinese Association for Atomic Layer Deposition, CAALD）”的重要倡议。该倡议旨在整合国内优势资源，建立常态化合作机制，系统性推动ALD技术在我国集成电路、新能源等战略产业中的创新发展和深度应用，巩固并扩大国内在该领域的领先优势，获得与会代表的广泛响应。第十一届中国原子层沉积会议的成功举办，为国内ALD技术的创新发展与应用深化注入了强劲动力。会议凝聚了共识，深化了合作，明确了发展方向。
展望未来，华中科技大学将持续深化在原子层沉积技术领域的研究与合作，推动科技成果的有效转化和应用，为中国科技创新与进步作出贡献。
About the Author
