实验室蔡佳明、李云博士参加美国真空协会年会

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2017-11-12 13:11:41 作者: 所属分类:学术动态 阅读: 5,160 views

2017年10月28日-11月4日,实验室蔡佳明、李云两位博士研究生赴美国坦帕参加了第64届美国真空学会(AVS 64th International Symposium & Exhibition)。两位同学分别在会议上进行了口头汇报介绍实验室近期代表性的科研进展,激发了国际同行极大的兴趣和会上讨论。

美国真空协会举办年会为世界上影响最为广泛的真空领域学会,会议内容涉及真空技术,表面科学,材料科学,分析表征技术等方向。两位同学在大会上的汇报题目分别为“Spatial atomic layer deposition reactor design for nano-laminates”和“NiOx Decorated Platinum Nanoparticles Via Atomic Layer Deposition for Enhanced Sintering Resistance”。会上较为详细的展示了课题组空间隔离原子层沉积设备设计、组合材料制备以及利用原子层沉积方法在纳米级尺度上可控制备金属氧化物修饰Pt结构纳米催化剂的实验和性能研究。报告会后,很多与会者都进行了提问和交流,深入交换了针对于科研内容的意见和建议,对于两位博士生今后的科研工作都具有积极的参考和推动作用。