陈蓉教授赴爱尔兰参加ALD 2016国际会议

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2017-02-24 15:02:18 作者: 所属分类:学术动态 阅读: 2,525 views

2016年7月24日至7月28日,我院陈蓉教授前往爱尔兰参加在Dublin Convention大Center举办的第16届国际原子层沉积大会(16th International Conference on Atomic Layer Deposition),并作题为并作题为“Enhanced Catalytic Performance of Metal Oxide Coated Pt Nanoparticles via Atomic Layer Deposition”的专题报告。提出了一种利用选择性原子层沉积技术可控制备活性金属氧化物牟定铂纳米颗粒的工艺方法,该结构由于存在强界面相互作用表现出优异的低温一氧化碳氧化性能和抗烧结性能,在汽车尾气催化应用研究中有重要的意义。

该会议是世界原子层沉积领域最著名最权威的品牌会议,每年吸引来自全世界各地的微电子领域专家及相关企业约千余人前来与会。会议主题为ALD技术的最新发展、基础研究与工业应用,涵盖了mechanism of ALD, hybrid MLD-ALD, nucleation and selective ALD, Applications in ULSI nano-electronics & memory applications, energy generation and storage applications, Noble metals and catalysis application, Transparent conductive oxides and optical applications, infiltration into membranes and pores, energy, ALD on particles, high throughput manufacturing等多个专题。

参会期间,陈蓉教授与北京大学的王新炜研究员、复旦大学的梅永丰、卢洪亮教授、陈琳副研究员、山西煤化所覃勇研究员、德国柏林工业大学BasCat中心的Raoul Naumann博士,比利时Einthoven university的Adrie Mackus教授、微导公司的Weimin Li博士、MKS公司的Guomin Mao博士等就各自最新研究成果进行了深入交流,并就相关内容探讨了后期合作事宜。

此次参会得到了机械学院国际合作推进计划经费支持。