MATERIALS · INTERFACES · MANUFACTURING
连接材料设计与先进制造
从表面反应和多尺度计算出发，研究原子层制造、柔性光电子器件与能源环境催化，连接材料机制、工艺控制和应用需求。
01 / 计算与数据
集成计算与人工智能
以原子层沉积和原子层刻蚀为主线，将表面反应、动力学与传输过程的多尺度模拟，与材料数据库、人工智能和具有物理先验的原子间势相结合，解释薄膜生长、刻蚀形貌及工艺条件之间的联系。
02 / 原子层制造
集成电路与极端制造
面向集成电路的精细结构和界面质量需求，开展实验原子层沉积（ALD）与原子层刻蚀（ALE）研究。重点关注区域选择性沉积、自对准图案化、刻蚀工艺窗口及低介电薄膜，并探索区域选择性ALE与沉积—刻蚀协同工艺。
03 / 柔性器件
柔性光电子器件与装备
面向可弯折显示、探测与传感器件，研究薄膜封装、表面缺陷调控和界面工程。通过ALD与空间隔离ALD工艺及装备研究，改善OLED、QLED等器件的水氧阻隔与使用稳定性。
04 / 催化与能源
先进能源催化材料
围绕催化反应的表界面结构，利用ALD、选择性包覆与纳米结构设计调控活性位点和金属—氧化物界面。研究催化活性与稳定性之间的关系，并面向环境净化、能源转化和绿色催化发展材料与制备方法。