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杨惠之
主要经历 2013.9-至今 华中科技大学物理学院学士 研究方向 ALD沉积在封装器件方面的应用
日期:
2017-03-28
浏览:
4273次
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唐元亭
主要经历 2013.9-至今 华中科技大学物理学院学士 研究方向
日期:
2017-03-28
浏览:
6824次
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李嘉伟
主要经历 2017.9- 至今 华中科技大学机械科学与工程学院博士 2013.9-2017.6 武汉理工大学汽车工程学院学士 研究方向 利用原子层沉积可控制备贵金属-氧化物催化剂,并将其应用于汽车尾气催化剂。微纳米颗粒表面包覆方法的研究和相应设备的研发与工艺的探索。
日期:
2017-03-28
浏览:
6473次
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龚渺
日期:
2016-09-03
浏览:
5577次
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徐景秋
日期:
2016-09-03
浏览:
1731次
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巴伟明
主要经历 研究方向
日期:
2015-09-22
浏览:
1855次
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但威
主要经历 2015.9-至今 华中科技大学机械科学与工程学院硕士 2011.9-2015.6 华中科技大学机械科学与工程学院学士 研究方向
日期:
2015-09-22
浏览:
2345次
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王晓雷
主要经历 2015.9-至今 华中科技大学机械科学与工程学院硕士 2011.9-2015.6中南大学机电工程学院学士 研究方向
日期:
2015-09-15
浏览:
2311次
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原子层沉积工艺与设备
(adsbygoogle = window.adsbygoogle || []).push({}); 1.原子层沉积工艺 原子层沉积技术(atomic layer deposition, ALD)已经逐渐成为了一项沉积功能薄膜的重要技术。该技术可以在纳米级尺度上精确控制物质成分和形貌,它可以将被沉积物质以单原子膜的形式一层一层的镀在基底表面。原子层沉积的过程是通过...
日期:
2014-09-03
浏览:
3549次
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