微纳材料设计与制造研究中心

2020年4月24日早8点30点，美国材料学会就旗下杂志Journal of Materials Research杂志原子层沉积（ALD）专刊《Atomic layer deposition for emerging thin-film materials and applications》开展全球在线专题讨论，陈蓉教授受邀进行了题为《Encapsulation of organic and nanocrystal LEDs via atomic layer deposition》的报告。

报告内容围绕着其所发表的封面论文展开，深入讨论了ALD技术在发光二极管显示跨尺度稳定化方面的研究进展。具体包括：在纳米尺度上，利用原子层沉积技术实现量子点表面缺陷位点的选择性钝化，进而实现其热稳定性、极性溶剂耐受性等；在像素尺度上，通过ALD技术实现量子点发光层的填充，显著改善其面内载流子输运效率，器件发光性能和稳定性也得到了显著提升；在宏观尺度上，通过将ALD技术与蒸镀、旋涂等工艺耦合开发的无机-有机复合封装结构具备优异的导热性能、柔性和阻隔能力，且极端环境耐受性显著提升。最后，陈蓉教授对现有ALD工艺和装备的发展进行了总结和展望。

报告结束后，陈蓉教授耐心解答了与会人员在前驱体选择、力学表征以及量子点器件等相关领域的问题，并与其进行了深入的技术交流，受到参会者们的一致好评。本次会议旨在原子层沉积技术在新兴领域应用的专业互动，为与会代表提供了一次宝贵的线上交流和学习机会。