微纳材料设计与制造研究中心

10月18日，爱尔兰廷德尔国家研究员Simon David Elliott受我中心陈蓉教授邀请，在先进制造大楼作题为“材料原子尺度精确生长及刻蚀技术模拟”的学术报告，与会的老师还有单斌教授、冯光教授、文艳伟副教授、李松副教授以及相关的老师和同学。Simon David Elliott博士是原子尺度过程模拟薛定谔科学软件公司的主任，2001年到2018年间，担任爱尔兰廷德尔国家研究所(Tyndall National Institute)的研究员，并领导设备组的材料建模工作。他在都柏林圣三一学院取得分析化学学士学位(1995年)，在卡尔斯鲁厄理工学院取得博士学位(1999年)，在三一学院(1999-2001年)进行博士后研究。他还是英国皇家化学学会和项目管理研究所成员、第16届原子层沉积国际会议(2016)的联合主席以及是欧洲COST Action(2014-2018) ALD的主席，累计发表超过75篇科研论文，经常受邀参加国际学术会议。

当今世界，纳米技术在高科技设备制造中被广泛应用，例如计算、数据存储、通信设备、传感器以及太阳能电池等。而原子层沉积（ALD）和原子层蚀刻（ALE）是通过自限表面化学来实现原子水平控制的加工技术，其可提供高科技设备所需的保形性、均匀性和纯度。Simon David Elliott博士借助第一原理计算，提出了一个新的、通用的、计算效率高的框架，用于分析刻蚀过程是连续的还是自限制的。同时，利用DFT和相应的反应动力学，建立了SiO₂,Si₃N₄,SiC等Si基材料区域选择性沉积的化学反应机理。在报告中他还向大家展示了自动化计算筛选在设计有机金属前体、缩小化学空间和寻找新型前驱体分子等方面的能力。这些例子表明，模拟在加深我们对现有研究过程的理解和发现新化学物质方面具有独特的作用。

Simon David Elliott博士精彩的讲演和渊博的学识令在场的同学受益匪浅。报告之后，与会老师和学生与Simon David Elliott博士进行了热烈的讨论。这次来访使同学们有机会接触到该研究领域最前沿的发展动态，为同学们提供了新的思考方向和有益启示。Simon David Elliott博士的本次交流访问，促进了双方对对ALD生长理论与前驱体设计等理论研究热点的理解，也为今后的合作奠定了坚实的基础。