高效空间隔离原子层沉积装备与应用

背景简介

空间隔离原子层沉积原理

实际应用

空间隔离原子层沉积技术在快速大尺度薄膜制备领域具有巨大潜力。

空间隔离原子层沉积技术（S-ALD）可实现原子层沉积技术在大规模批量制造的产业化应用。

 

设备搭建

自搭建S-ALD系统集成多个模块化喷头单元;
模型预测控制算法实现精确控温；
可扩展式喷头设计，沉积速率可达100 nm/min。
喷头与基底距离微米级可控；
薄膜张力实时监测并进行反馈调节；
大面积、连续沉积满足工业生产需求。

 

研究成果

气体分布分析
层叠状薄膜沉积
薄膜折射率调控 
陈蓉，教授，博士生导师

华中科技大学机械科学与工程学院 数字制造装备与技术国家重点实验室 装需求

“中青年科技创新领军人才”获得者 “973”青年项目负责人 “青年千人计划”入选者 装需求
邮箱：rongchen@mail.hust.edu.cn 地址：湖北省武汉市珞喻路1037号，430074 装需求