高效空间隔离原子层沉积装备与应用


背景简介


空间隔离原子层沉积原理

实际应用

空间隔离原子层沉积技术在快速大尺度薄膜制备领域具有巨大潜力。

空间隔离原子层沉积技术(S-ALD)可实现原子层沉积技术在大规模批量制造的产业化应用。

 


设备搭建


自搭建S-ALD系统集成多个模块化喷头单元; 模型预测控制算法实现精确控温; 可扩展式喷头设计,沉积速率可达100 nm/min。
喷头与基底距离微米级可控; 薄膜张力实时监测并进行反馈调节; 大面积、连续沉积满足工业生产需求。

 


研究成果


气体分布分析
层叠状薄膜沉积
薄膜折射率调控 
陈蓉,教授,博士生导师

华中科技大学机械科学与工程学院 数字制造装备与技术国家重点实验室 装需求

“中青年科技创新领军人才”获得者 “973”青年项目负责人 “青年千人计划”入选者 装需求
邮箱:rongchen@mail.hust.edu.cn 地址:湖北省武汉市珞喻路1037号,430074 装需求