背景简介


 

工艺原理 应用领域
ALD工艺的典型特征
技术优势
自限性的生长过程
精确的膜厚控制 : 由沉积的循环次数决定 无需精确控制每次反应的反应物通量 超级的薄膜均匀性及同质性 大面积沉积及批量生产能力 致密, 连续, 均匀且无孔洞缺陷的薄膜 原子级的成分控制
应用领域: 面向航空航天、生物医疗、电子制造等尖端科技领域,在含能粒子降感、靶向药磁性颗粒表面改性、电子封装等典型领域实现技术示范。 应用要求: 纳米粒子团聚体的独立分散 前驱体分子的快速扩散 颗粒表面的均匀吸附 独立、均匀、大批量制备

 


成果简介


设备开发
离心流化ALD设备 行星流化ALD设备
优势: 耦合离心与流化作用,颗粒团聚破裂,稳定均匀流化状态,促进前驱体与颗粒表面均匀充分接触,增强气固传质传热 包覆范围从Geldart A类颗粒到C类颗粒 优势: 流化过程中,耦合行星运动(自转与公转)加大离心力,进一步分散团聚体 处理量更大
陈蓉,教授,博士生导师

华中科技大学机械科学与工程学院 数字制造装备与技术国家重点实验室 装需求

“中青年科技创新领军人才”获得者 “973”青年项目负责人 “青年千人计划”入选者 装需求
邮箱:rongchen@mail.hust.edu.cn 地址:湖北省武汉市珞喻路1037号,430074 装需求