背景简介
| 工艺原理 | 应用领域 |
 |
 |
|
ALD工艺的典型特征
技术优势
自限性的生长过程
精确的膜厚控制 : 由沉积的循环次数决定
无需精确控制每次反应的反应物通量 超级的薄膜均匀性及同质性 大面积沉积及批量生产能力 致密, 连续, 均匀且无孔洞缺陷的薄膜 原子级的成分控制 |
应用领域： 面向航空航天、生物医疗、电子制造等尖端科技领域，在含能粒子降感、靶向药磁性颗粒表面改性、电子封装等典型领域实现技术示范。 应用要求： 纳米粒子团聚体的独立分散 前驱体分子的快速扩散 颗粒表面的均匀吸附 独立、均匀、大批量制备 |
成果简介
设备开发
| 离心流化ALD设备 | 行星流化ALD设备 |
 |
 |
| 优势： 耦合离心与流化作用，颗粒团聚破裂，稳定均匀流化状态，促进前驱体与颗粒表面均匀充分接触，增强气固传质传热 包覆范围从Geldart A类颗粒到C类颗粒 |
优势： 流化过程中，耦合行星运动(自转与公转)加大离心力，进一步分散团聚体 处理量更大 |
陈蓉，教授，博士生导师
华中科技大学机械科学与工程学院 数字制造装备与技术国家重点实验室 装需求
“中青年科技创新领军人才”获得者 “973”青年项目负责人 “青年千人计划”入选者 装需求
邮箱：rongchen@mail.hust.edu.cn 地址：湖北省武汉市珞喻路1037号，430074 装需求